会社は創立以来、持続的な研究開発と顧客満足を基礎として、ウエハCMP平坦化材料の研究開発とサービスに力を入れてきた、セリウム基CMP研磨材料を主とする半導体湿式化学品材料会社を目指し、サプライチェーンの自主的に制御可能なサプライチェーンを目指している。

会社の成長に伴い、博士と業界の専門家からなる研究開発チームを誘致し、従業員はすべて材料合成、表面処理、物理化学、半導体プロセスなどの分野から来て、CMP技術の最前線研究と新製品開発に専念し、そして多くのトップ大学と研究機関と協力して、絶えず技術革新、自主研究開発、生産、販売及び技術サービスのワンストップ半導体材料会社を推進している。

お客様と緊密に協力し、お客様に製品の必要に応じて最適な材料を配合させ、完全なサプライチェーンシステムを閉じ、お客様に高価格比を提供し、安心して継続的に供給する能力を保証します。

愛に駆けつけ、堅持を信じ、未来を恐れず、すべてを可能にすることはできない！

同社はISO 9001品質システム認証とCNAS認証を取得している。