STI 6110は、論理回路、メモリの浅いスロット分離/誘電体層研磨を含む一連の技術ノードに適している

窒化ケイ素に非常に良い停止効果がある

高純度自己研磨セリア粉体を使用することで、極小の一次粒子径で傷付きなどの欠陥を低減することができる

論理回路とメモリのSTIプロセス用

濃縮処方、魅力的な使用コスト

セリア粉体は共同で開発/カスタマイズすることができ、顧客の高次性能ニーズを満たすことができる