中文
English
日本語
BSP 8110は、論理回路、メモリなどの金属バリア研磨を含む一連の技術ノードに適している
low−K誘電体を用いた多様な集積スキームのために設計されたアルカリバリア研磨液
調整可能な銅金属とlow-k/ULK除去率
高純度研磨粒子
低表面欠陥と残留物
フォーミュラは調整性があり、顧客の特定のパフォーマンス要件を満たすことができる