STI 6110 适用于一系列技术节点，包括逻辑电路、存储器的浅槽隔离/介电层抛光

在氮化硅上有非常好的停止效果

使用高纯度自研二氧化铈粉体，极小的一次粒径可以减少划伤等缺陷

用于逻辑电路和存储器中 STI 制程

浓缩配方，具有吸引力的使用成本

二氧化铈粉体能够合作开发/定制，可满足客户的高阶性能需求