PSR 6150 适用于亚微米线宽的集成电路（Power MOSFET / IGBT）的多晶硅薄膜层抛光

极低的氮化物、氧化物研磨去除率，同时和多晶硅膜层相比拥有高选择性

电介质的速率和选择性均可调

高纯度胶体二氧化硅

平坦化效率高

高稀释比的抛光液产品，满足客户低成本预期